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Effects of oxidant selection for atomic layer deposition on impurity removal and crystallinity of as-grown Hf1− x Zr x O2 thin films

Haoming Che, Takashi Onaya, Atsushi Tamura, Masaki Ishii, Hiroshi Taka, Koji Kita.

Journal of Vacuum Science & Technology A 44 [3] 030402. 2026.

https://doi.org/10.1116/6.0005362

Open Access Materials Data Repository (MDR)

NIMS著者

女屋崇

Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット

MDRavailable Effects of oxidant selection for atomic layer deposition on impurity removal and crystallinity of as-grown Hf1− <i>x</i> Zr <i>x</i> O2 thin films

作成時刻: 2026-06-18 03:05:52 +0900 更新時刻: 2026-10-22 04:34:52 +0900

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