Self-aligned patterning on β-Ga2O3 substrates via backside-exposure photolithography

著者	Takayoshi Oshima.
掲載誌名	Japanese Journal of Applied Physics 62 [1] 018004 ISSN: 13474065, 00214922 ESIでのカテゴリ: PHYSICS
出版社	IOP Publishing
発表年	2023
言語	English
DOI	https://doi.org/10.35848/1347-4065/acb0b3
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