SAMURAI - NIMS Researchers Database

HOME > 論文 > 詳細

Self-aligned patterning on β-Ga2O3 substrates via backside-exposure photolithography

著者Takayoshi Oshima.
掲載誌名Japanese Journal of Applied Physics 62 [1] 018004
ISSN: 13474065, 00214922
ESIでのカテゴリ: PHYSICS
出版社IOP Publishing
発表年2023
言語English
DOIhttps://doi.org/10.35848/1347-4065/acb0b3
本文ファイル・データセット
    この文献をMendeleyにインポートMendeley

    ▲ページトップへ移動