HOME > 論文 > 書誌詳細Crystallinity of In2O3(ZnO)5 films by epitaxial growth with a self-buffer-layer(自己バッファー層を用いた In2O3(ZnO)5 薄膜のエピタキシャル成長)Naoki Ohashi, Isao Sakaguchi, Shunichi Hishita, Yutaka Adachi, Hajme Hareda, Tsuyoshi Ogino. Journal of Applied Physics 92 [5] 2378-2384. 2002.https://doi.org/10.1063/1.1495530 NIMS著者大橋 直樹坂口 勲菱田 俊一安達 裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2016-05-24 11:48:50 +0900更新時刻: 2024-03-29 21:08:06 +0900