原子層堆積法の酸化ガスがAl2O3膜の電気特性へ及ぼす影響
(Influence of Oxidant Gas of Atomic Layer Deposition on Electrical Characteristics of Al2O3 films)
NIMS著者
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作成時刻: 2018-05-15 20:53:13 +0900 更新時刻: 2018-12-15 01:27:19 +0900