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著者名Mitsuhiro Hamada, Tokuyuki Teraji, Toshimichi Ito.
タイトルHillock-Free Homoepitaxial Diamond (100) Films Grown at High Methane Concentrations
掲載誌名Japanese Journal of Applied Physics 44 [No. 6] L216-L219
ISSN: 13474065, 00214922
ESIでのカテゴリ: PHYSICS
出版社Japan Society of Applied Physics
発表年2005
言語English
DOIhttps://doi.org/10.1143/jjap.44.l216
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