English Translation of J. Surf. Anal. 24, 192-205(2018), Auger Depth Profiling Analysis of HfO2/Si Specimen Using an Ultra Low Angle Incidence Ion Beam | 研究者総覧SAMURAI - 物質・材料研究機構 (NIMS)

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English Translation of J. Surf. Anal. 24, 192-205(2018), Auger Depth Profiling Analysis of HfO2/Si Specimen Using an Ultra Low Angle Incidence Ion Beam
(翻訳，極低角度入射ビームオージェ深さ方向分析によるHfO2/Si基板の分析)

OGIWARA, Toshiya, NAGATA, Takahiro, YOSHIKAWA, Hideki.

Journal of Surface Analysis [3] 209-220. 2019.

https://doi.org/10.1384/jsa

NIMS著者

Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット

作成時刻: 2019-04-03 03:00:19 +0900 更新時刻: 2025-05-21 06:46:42 +0900

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