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Chlorine-based inductive coupled plasma etching of α-Ga2O3
(塩素系ICPによるα-Ga2O3のエッチング)

Zhe (Ashley) Jian, Yuichi Oshima, Shawn Wright, Kevin Owen, Elaheh Ahmadi.

NIMS著者


Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット


    作成時刻 :2019-03-01 12:16:37 +0900 更新時刻 :2021-03-08 20:14:01 +0900

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