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Chlorine-based inductive coupled plasma etching of α-Ga2O3
(塩素系ICPによるα-Ga2O3のエッチング)

著者Zhe (Ashley) Jian, Yuichi Oshima, Shawn Wright, Kevin Owen, Elaheh Ahmadi.
掲載誌名Semiconductor Science and Technology 34 [3] 035006
ISSN: 02681242, 13616641, 09532048, 13616668
ESIでのカテゴリ: PHYSICS
出版社IOP Publishing
発表年2019
言語English
DOIhttps://doi.org/10.1088/1361-6641/aafeb2
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