Chlorine-based inductive coupled plasma etching of α-Ga2O3
(塩素系ICPによるα-Ga2O3のエッチング)

著者	Zhe (Ashley) Jian, Yuichi Oshima, Shawn Wright, Kevin Owen, Elaheh Ahmadi.
掲載誌名	Semiconductor Science and Technology 34 [3] 035006 ISSN: 13616641, 13616668, 02681242, 09532048 ESIでのカテゴリ: PHYSICS
出版社	IOP Publishing
発表年	2019
言語	English
DOI	https://doi.org/10.1088/1361-6641/aafeb2
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