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Chlorine-based dry etching ofβ-Ga2O3

著者Jack E Hogan, Stephen W Kaun, Elaheh Ahmadi, Yuichi Oshima, James S Speck.
掲載誌名Semiconductor Science and Technology 31 [6] 065006
出版社IOP Publishing
発表年2016
言語English
DOIhttps://doi.org/10.1088/0268-1242/31/6/065006
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