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著者名S. N. Heo, Y. Ishiguro, R. Hayakawa, T. Chikyow, Y. Wakayama.
タイトルPerspective: Highly ordered MoS2 thin films grown by multi-step chemical vapor deposition process
掲載誌名APL Materials 4 [3] 030901
ISSN: 2166532X
発表年2016
言語English
ESIでのカテゴリMATERIALS SCIENCE
DOIhttps://doi.org/10.1063/1.4943288
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