Negative Copper Ion Implantation into Silica Glasses at High Dose Rates and the Optical Measurements | 研究者総覧SAMURAI - 物質・材料研究機構 (NIMS)

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Negative Copper Ion Implantation into Silica Glasses at High Dose Rates and the Optical Measurements
(高線量率における石英ガラスへの負Cuイオン注入及びその光学的測定)

KISHIMOTO, Naoki, V.T.Gritsyna, KONO, Kenichiro, AMEKURA, Hiroshi, 斎藤鉄哉.

Nuclear Instruments and Methods in Physical Research Section B 579-582. 1997.

NIMS著者

Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット

作成時刻: 2022-11-15 00:39:09 +0900更新時刻: 2022-11-15 00:39:09 +0900

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