HOME > Profile > SAKAGUCHI, Isao
- Address
- 305-0044 1-1 Namiki Tsukuba Ibaraki JAPAN [Access]
Research
- Keywords
格子欠陥制御、イオンビーム
PublicationsNIMS affiliated publications since 2004.
Research papers
- Chikashi Yoshimoto, Shoichi Itoh, Isao Sakaguchi. Hydrogen diffusion in apatite parallel to the c-axis under vapor flow. GEOCHEMICAL JOURNAL. 58 [1] (2024) GJ24001 10.2343/geochemj.gj24001 Open Access
- 朴大出, SAKAGUCHI, Isao, 大橋直樹, 菱田俊一, HANEDA, Hajime. SIMS DEPTH PROFILING OF N AND In IN ZnO SINGLE CRYSTAL. APPLIED SURFACE SCIENCE. (2003) 359-362
- SAITO, Noriko, HANEDA, Hajime, SAKAGUCHI, Isao, IKEGAMI, Takayasu. Effect of the calcium dopant on oxide ion diffusion in yttria ceramics. Journal of Materials Research. (2001)
Books
- 坂口 勲, 佐藤芳之. コンビナトリアルイオン注入装置の開発. コンビナトリアルテクノロジー(丸善出版). , 2004, 81-84.
- 坂口 勲. イオン注入効果. コンビナトリアルテクノロジー(丸善出版). , 2004, 183-185.
- 羽田 肇, 坂口 勲. 固相ダイナミックコンビナトリアル. コンビナトリアルテクノロジー(丸善出版). , 2004, 48-52.
Proceedings
- N. Saito, H. Haneda, I. Sakaguchi, K. Suematsu, K. Watanabe, K. Shimanoe. GS1.3 - Pyramid-Shaped ZnO Particles with High Sensitivity to Ethanol Gas. prociidings IMCS 2018. (2018) 10.5162/imcs2018/gs1.3
- Minako Hashiguchi, Isao Sakaguchi, Reona Miyazaki, Kazunori Takada, Naoki Ohashi. Cobalt doping as the controlling factor of oxygen diffusivity in ZnO by more than four orders of magnitude. DEFECT AND DIFFUSION FORUM. (2015) 85-90 10.4028/www.scientific.net/ddf.363.85
- Isao Sakaguchi, Ken Watanabe, Yutaka Adachi, Takeshi Ohgaki, Shunichi Hishita, Naoki Ohashi, Hajime Haneda. Oxygen tracer diffusion in a-axis oriented ZnO thin films grown on sapphire by pulsed laser deposition. KEY ENGINEERING MATERIALS. (2013) 266-270 10.4028/www.scientific.net/kem.566.266
Presentations
- 坂口 勲, 齋藤 紀子, 安達 裕, 鈴木 拓. 緻密化したターゲットを利用した酸化物薄膜の合成とガスセンサ特性の評価. 日本セラミックス協会 第37回秋季シンポジウム. 2024
- 大垣 武, 坂口 勲, 大橋 直樹. MBE法で作製したScN薄膜の非化学量論的組成と電気特性. 2024年第71回応用物理学会春季学術講演会. 2024
- 長谷川 浩太, SHIMIZU, Takao, OHSAWA, Takeo, SAKAGUCHI, Isao, OHASHI, Naoki. Demonstration of ferroelectricity in non-substituted AlN thin films fabricated by sputtering method. MNC2023. 2023
Misc
- 室町 英治, 藤田 高弘, 藤田 大介, 村川 健作, 山内 泰, 三石 和貴, 川喜多 磨美子, 岩井 秀夫, 大久保 忠勝, 川喜多 仁, 北澤 英明, 木本 浩司, クスタンセ オスカル, 倉橋 光紀, 後藤 敦, 坂口 勲, 坂田 修身, 櫻井 健次, 張 晗, 篠原 正, 清水 禎, 清水 智子, 志波 光晴, 鈴木 拓, 関口 隆史, 丹所 正孝, 知京 豊裕, 長田 貴弘, 野口 秀典, 端 健二郎, 宝野 和博, 柳生 進二郎, 山下 良之, 吉川 元起, 吉川 英樹, 吉武 道子, 渡邉 賢, 渡邊 誠. 材料イノベーションを加速する先進計測テクノロジーの現状と動向 物質・材料研究のための先進計測テクノロジー. 調査分析室レポートNIMS-RAO-FY2016-3 [ISBN] 978-4-9900563-7-7. 1 (2016) 42-51
- 室町 英治, 藤田 高弘, 藤田 大介, 村川 健作, 山内 泰, 三石 和貴, 川喜多 磨美子, 岩井 秀夫, 大久保 忠勝, 川喜多 仁, 北澤 英明, 木本 浩司, クスタンセ オスカル, 倉橋 光紀, 後藤 敦, 坂口 勲, 坂田 修身, 櫻井 健次, 張 晗, 篠原 正, 清水 禎, 清水 智子, 志波 光晴, 鈴木 拓, 関口 隆史, 丹所 正孝, 知京 豊裕, 長田 貴弘, 野口 秀典, 端 健二郎, 宝野 和博, 柳生 進二郎, 山下 良之, 吉川 元起, 吉川 英樹, 渡邉 賢, 渡邊 誠. 材料イノベーションを加速する先進計測テクノロジーの現状と動向. 調査分析室レポート. (2016) 73-89
- WATANABE, Ken, SAKAGUCHI, Isao, OGAKI, Takeshi, SAITO, Noriko, HISHITA, Shunichi, HANEDA, Hajime, OHASHI, Naoki. Interaction of water vapor with SnO2. the proceedings of the IMCS 2012 – The 14th International Meeting on Chemical Sensors. (2012) 1285-1288 10.5162/imcs2012/p2.0.9
Society memberships
日本セラミックス協会, 応用物理学会
Research Center for Electronic and Optical Materials
安定同位体を利用した酸化物中の欠陥に関する研究
酸化物,酸素欠陥,水素固溶と拡散,デバイスの信頼性
Overview
酸化物では酸素欠陥が様々な現象に寄与する欠陥として議論されている。しかし、酸素欠陥(空孔)を直接捉えることはできない。酸素欠陥は合成条件や添加物の固溶によりその濃度が変化する。そこで酸素の安定同位体(質量数18の酸素)を使うと、酸素欠陥濃度に依存した拡散係数として捉えることが可能となる。同位体利用研究は物質科学的な研究だけでなく、酸化物デバイスの信頼性の評価等に利用できる。安定同位体を測定するためには、質量分析装置が必要であり、酸素の同位体測定(質量数、16, 17, 18)だけでなく、物質中の水素、重水素分析が可能である。最近では、酸化物デバイス信頼性評価に水素の安定同位体(質量数、2)の利用研究も実施してきた。
Novelty and originality
● 酸素安定同位体ガス中での熱処理
● 熱処理前の試料表面の最適化処理
● 安定同位体の分析
● 水素同位体拡散実験システム
● 低温での水素の電界ドリフト評価
Details
ここでは酸化ランタン中の酸素欠陥に関する研究を紹介する。酸化ランタンセラミックスは大気中ではすぐに崩壊し粉末となる。添加物を加えることで改善させることができた。図1は酸化ランタン中の18O酸素拡散プロファイルである。熱処理温度が500度以上では比較的18O濃度が高く、400度では表面は18O濃度が大きく、試料奥で濃度が減少する。試料表面には水酸化ランタンが生成しており、400度では残存していて、500度以上では分解してしまうため、このようなプロファイルになったと考えられる。
Summary
酸化ランタンはhigh-k材料候補であるが、大気安定性に大きな問題がある。これを解決することが最大の課題である。添加物を大量に加えて安定性の改善を図ることは可能であるが、完全ではない。これを解決するために、酸素空孔を制御する有効な添加物を探索している。現在、比誘電率は20-28であるが、これを改善する添加物も同時に探索している。