Ion energy distributions and radical densities in a CH4/H2 inductively coupled plasma used for diamond deposition
(CH4/H2誘導結合プラズマのイオンエネルギー分布及びラジカル密度)
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-26 23:58:12 +0900更新時刻: 2017-03-17 02:03:28 +0900