パワーエレクトロニクス応用に向けたMOCVD法によるBi系酸化物薄膜の作製
(Preparation of Bi-based Oxide Films by MOCVD Targeting Power Electronics Applications)
| 著者 | 河合伸哉, 土屋哲男, 有沢 俊一, 毛塚博史, 露本伊佐男, 舘野康史, Petre Badica, 遠藤和弘. |
|---|---|
| 発表誌名 | 電気学会研究会資料 |
| 発表年 | 2016 |
| 言語 | Japanese |