パワーエレクトロニクス応用に向けたMOCVD法によるBi系酸化物薄膜の作製
(Preparation of Bi-based Oxide Films by MOCVD Targeting Power Electronics Applications)
NIMS著者
Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット
作成時刻: 2017-02-27 02:57:22 +0900更新時刻: 2017-03-17 05:14:28 +0900