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著者名河合伸哉, 土屋哲男, 有沢 俊一, 毛塚博史, 露本伊佐男, 舘野康史, Petre Badica, 遠藤和弘.
タイトルパワーエレクトロニクス応用に向けたMOCVD法によるBi系酸化物薄膜の作製
(Preparation of Bi-based Oxide Films by MOCVD Targeting Power Electronics Applications)
発表誌名電気学会研究会資料
発表年2016
言語Japanese

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