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著者名Hideo Miura, Ken Suzuki, Toru Ikoma, Seiji Samukawa, YOSHIKAWA, Hideki, UEDA, Shigenori, YAMASHITA, Yoshiyuki, KOBAYASHI, Keisuke.
タイトルDegradation of reliability of high-k gate dielectrics caused by point defects and residual stress
(高誘電体ゲート絶縁膜信頼性の点欠陥と残留応力による劣化機構)
発表誌名Reliability Physics Symposium, 2008. IRPS 2008. IEEE International
発表年2008
言語English

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