HOME > 会議録 > 書誌詳細トリメチルホスフィンを用いたリンドープ気相合成ダイヤモンド薄膜の作製と評価(トリメチルホスフィンを用いたPドープn型CVDダイヤモンド薄膜の作製と評価)和田英樹, 寺地 徳之, 伊藤利道. 真空 157-159. 2005.NIMS著者寺地 徳之Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-27 01:01:14 +0900更新時刻: 2017-03-17 03:01:21 +0900
