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トリメチルホスフィンを用いたリンドープ気相合成ダイヤモンド薄膜の作製と評価
(トリメチルホスフィンを用いたPドープn型CVDダイヤモンド薄膜の作製と評価)
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Created at: 2017-02-27 01:01:14 +0900Updated at: 2017-03-17 03:01:21 +0900