HOME > 口頭発表 > 書誌詳細摩擦力顕微鏡原子分解能観察による MOCVD-MoS2成膜過程の S 欠陥定量評価(Atomic-scale quantitative evaluation of S defects during MOCVD-MoS2 film formation by friction force microscopy)松本 昂征, 西村 知紀, 金橋 魁利, 佐久間 芳樹, 長汐 晃輔. 第73回応用物理学春季学術講演会. 2026年03月15日-2026年03月18日.NIMS著者佐久間 芳樹Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2026-06-19 03:06:51 +0900 更新時刻: 2026-06-19 03:06:51 +0900