スカベンジング効果を用いたHfO2/Si界面のSiO2の薄膜化
(Shrinkage of SiO2 thickness at the HfO2/Si interface by Scavenging Effect)
日本電子材料技術協会第48回秋期講演大会. 2011-11-10.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-14 11:21:05 +0900 更新時刻: 2017-07-10 21:12:51 +0900