Si/Ge多層薄膜試料を用いたスパッタリングレート測定に関するRRT実験結果報告
(RRT for the Measurement of Sputtering Rates Using Si/Ge multilayered thin films.)
ISO TC201 SC4 電子分光WG 国内委員会. 2008.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-01-08 05:16:30 +0900更新時刻: 2017-07-10 20:11:43 +0900