HOME > Presentation > DetailSi/Ge多層薄膜試料を用いたスパッタリングレート測定に関するRRT実験結果報告(RRT for the Measurement of Sputtering Rates Using Si/Ge multilayered thin films.)荻原 俊弥. ISO TC201 SC4 電子分光WG 国内委員会. 2008-04-23.NIMS author(s)OGIWARA, ToshiyaFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2017-01-08 05:16:30 +0900Updated at: 2017-07-10 20:11:43 +0900