シリコン表面酸化中の表面応力変動におよぼす表面不均一性の効果
(Effect of Surface Disorder on the Surface Stress of Si(100)during Oxidation)
Third International Symposium on Control of Semiconductor Interf. 1999年10月25日-1999年10月29日.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-14 11:36:32 +0900 更新時刻: 2017-07-10 17:56:41 +0900