Characteristics of Low Pressure Inductively Coupled CH4/CO/H2 Plasma Used for Nanostructured Carbon Deposition
(ナノ構造カーボン合成用低圧誘導結合CH4/CO/H2プラズマの特性)
第21回プラズマプロセシング研究会. 2004年01月28日-2004年01月30日.
NIMS著者
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作成時刻: 2022-09-05 11:26:21 +0900 更新時刻: 2022-09-05 11:26:21 +0900