HOME > 口頭発表 > 書誌詳細水素終端Si(100)表面における原子吸着・拡散(Adsorption and diffusion of a Ge atom on the terminated Si(100) surface)奈良 純, 大野隆央, 大野 隆央. 第60回応用物理学会学術講演会. 1999年09月01日-1999年09月04日.NIMS著者奈良 純Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-18 01:49:08 +0900 更新時刻: 2017-07-10 17:59:39 +0900