SAMURAI - NIMS Researchers Database

HOME > 口頭発表 > 書誌詳細

ガス流制御による光安定アモルファスシリコン薄膜成長
(Growth of stable amorphous silicon films by gas-flow controlled RF plasma CVD)

新倉 ちさと, 松田彰久.
2009年春季第56回応用物理学関係連合講演会. 2009年03月30日-2009年04月02日.

NIMS著者


Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット


    作成時刻: 2017-02-14 11:34:21 +0900更新時刻: 2017-07-10 20:28:35 +0900

    ▲ページトップへ移動