HOME > 口頭発表 > 書誌詳細ガス流制御による光安定アモルファスシリコン薄膜成長(Growth of stable amorphous silicon films by gas-flow controlled RF plasma CVD)新倉 ちさと, 松田彰久. 2009年春季第56回応用物理学関係連合講演会. 2009年03月30日-2009年04月02日.NIMS著者新倉 ちさとMaterials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-14 11:34:21 +0900更新時刻: 2017-07-10 20:28:35 +0900