Negative Copper Ion Implantation into Silica Glasses at High Dose Rates and the Optical Measurements
(高線量率における石英ガラスへの負Cuイオン注入及びその光学的測定)
第10回イオンビーム材料改質国際会議(IBMM96). 1996年09月01日-1996年09月06日.
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作成時刻: 2017-02-18 01:07:21 +0900 更新時刻: 2023-04-09 15:04:02 +0900