60 keV負イオン注入法でSiO2中に作製したNiナノ粒子
(Ni nanoparticles in SiO2 fabricated by negative-ion implantation of 60 keV)
第14回日本MRS学術シンポジウム. 2002年12月20日-2002年12月21日.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-01-08 04:46:15 +0900 更新時刻: 2017-07-10 18:33:03 +0900