n-メタルゲート電極としてHf-酸化物上へ形成したTa1-xYxC膜の電気特性
(Electrical properties of Ta1-xYxC films on Hf-based high-k as n-metal gate electrode)
2010年秋季 第71回 応用物理学会学術講演会. 2010.
NIMS著者
Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット
作成時刻: 2017-01-08 03:33:10 +0900更新時刻: 2017-07-10 20:51:37 +0900