HOME > 口頭発表 > 書誌詳細SiO2/SiC interface engineering via low temperature NO oxynitridation of SiC surface feasible with Si device fabrication equipmentHOSOI, Takuji. The 22nd International Conference on Silicon Carbide and Related Materials (ICSCRM 2025). 2025年09月14日-2025年09月19日.NIMS著者細井 卓治Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2025-09-30 03:14:27 +0900 更新時刻: 2025-09-30 03:14:27 +0900