Atomic Layer Deposition of SnO Film Using Liquid Sn(EtCp)2 Precursor and Combinations of H2O and H2 Plasma
The AVS 24th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2024). 2024年08月04日-2024年08月07日.
NIMS著者
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作成時刻: 2024-11-13 03:15:59 +0900 更新時刻: 2024-11-13 03:15:59 +0900