HOME > 口頭発表 > 書誌詳細水素終端S(100)ステップ表面におけるSi原子拡散(Si adatom diffusion on H/Si(100) stepped surface)奈良 純, 佐々木 泰造, 大野 隆央. 日本物理学会 第53回年会. 1998-03-30.NIMS著者奈良 純Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-01-08 03:30:11 +0900 更新時刻: 2017-07-10 17:48:06 +0900