High Current Implantation of Negative Copper Ions Into Silica Glasses
(負Cuイオンの石英ガラスへの大電流イオン注入)
Materials Research Society 1996 Fall Meeting. 1996年12月02日-1996年12月06日.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-01-08 04:50:17 +0900 更新時刻: 2017-07-10 17:39:39 +0900