アルミ陽極酸化膜を用いた次世代不揮発性メモリの開発
(Development of a next-generation-nonvolatile-memory using aluminum anodic oxide film )
第45回茅コンファレンス. 2007.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-14 11:17:16 +0900更新時刻: 2017-07-10 19:59:34 +0900