プラズマ酸化過程におけるシリコン表面応力の研究
(Surface Stress in Silicon Oxidelayer made by Plasma Oxidation with Applying Sample Bias)
AVS 45th Internaternational Symposlum. 1998年11月02日-1998年11月06日.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-14 11:38:51 +0900 更新時刻: 2017-07-10 17:50:26 +0900