HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Growth of deep UV luminous hexagonal boron nitride by annealing after low temperature chemical vapor phase deposition(低温CVD後のアニールによる紫外発光性六方晶窒化ホウ素の成長)TSUDA, Osamu, WATANABE, Kenji, TANIGUCHI, Takashi. 第27回電子材料シンポジウム. 2008.NIMS著者渡邊 賢司谷口 尚Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-14 11:02:46 +0900更新時刻: 2017-07-10 20:15:20 +0900