HOME > 口頭発表 > 書誌詳細ナノV溝構造吸着層の引き離し高さ笠原 章, 後藤 真宏, 大石 哲雄, Yuriy PIHOSH, 土佐 正弘. トライボロジー会議 2004 春 東京. 2004年05月10日-2004年05月12日.NIMS著者後藤 真宏Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-14 10:56:43 +0900 更新時刻: 2017-07-10 19:00:03 +0900
