極薄熱酸化膜上に形成したHfO2-Al2O3縦方向組成傾斜膜の構造観察と電気的特性評価
(Structure and electrical characterization for vertical composition spread HfO2-Al2O3 on thermally grown SiO2 on Si(100))
第64回応用物理学会学術講演会. 2003年08月30日-2003年09月02日.
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作成時刻: 2017-01-08 03:57:22 +0900 更新時刻: 2018-05-30 19:14:04 +0900