イオン電子同時照射によるSi酸化膜/Si(001)基板のナノ切削加工
(Micro-scale lithography on SiO2/Si(001) by coincidence irradiation of ion and electron beams)
第３回バイオ・ナノテクフォーラムシンポジウム. 2009.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-14 11:38:55 +0900更新時刻: 2017-07-10 20:26:56 +0900