HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Reaction of MoS2 with stacked high-k dielectricsH. Maekawa, J.-T. Chang, S. Li, T. Nishimura, K. Kanahashi, SAKUMA, Yoshiki, NAGATA, Takahiro, K. Nagashio. The 16th International Conference on Recent Progress in Graphene and 2D Materials Research (RPGR2025). 2025年11月03日-2025年11月07日.NIMS著者佐久間 芳樹長田 貴弘Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2025-12-03 03:12:37 +0900 更新時刻: 2025-12-03 03:12:37 +0900