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Low contact resistance on buried interfaces in oxide thin-film transistors by selective-area reduction using hydrogenation catalyst electrode

M. Tsuji, Y. Shi, H. Cho, UEDA, Shigenori, J. Kim, HOSONO, Hideo.
PRiME 2024. 2024年10月06日-2024年10月11日. 招待講演

NIMS著者


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    作成時刻: 2024-11-13 03:15:55 +0900更新時刻: 2024-11-13 03:15:55 +0900

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