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MOCVD法によるビスマス系2201酸化物超伝導薄膜の作製
(Preparation of Bi-2201 Oxide Thin Films by MOCVD)

著者金子俊幸, 遠藤和弘, 森口拓文, 竹俣裕理, 池永訓昭, 大橋憲太郎, P. Badica, 有沢 俊一.
会議名第16回日本セラミックス協会北陸支部秋季研究発表会
発表年2012
言語Japanese

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