HOME > Presentation > DetailMOCVD法によるビスマス系2201酸化物超伝導薄膜の作製(Preparation of Bi-2201 Oxide Thin Films by MOCVD)金子俊幸, 遠藤和弘, 森口拓文, 竹俣裕理, 池永訓昭, 大橋憲太郎, P. Badica, 有沢 俊一. 第16回日本セラミックス協会北陸支部秋季研究発表会. 2012.NIMS author(s)ARISAWA, ShunichiFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at :2017-02-14 10:59:28 +0900 Updated at :2017-07-10 21:30:03 +0900