SOG-Si生成に向けたパルス変調熱プラズマによる水素ラジカルとSiHCl3との反応
(Reaction of SiHCl3 with hydrogen radical produced using pulse-modulated thermal plasma for SOG-Si production)
2010年春季 第57回 応用物理学関係連合講演会. 2010.
NIMS著者
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作成時刻: 2019-03-04 09:36:55 +0900更新時刻: 2019-03-04 09:36:55 +0900