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SOG-Si生成に向けたパルス変調熱プラズマによる水素ラジカルとSiHCl3との反応
(Reaction of SiHCl3 with hydrogen radical produced using pulse-modulated thermal plasma for SOG-Si production)

著者秋月智大, 石垣隆正, 角谷正友, 橋本拓也, 鯉沼秀臣.
会議名2010年春季 第57回 応用物理学関係連合講演会
発表年2010
言語Japanese

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