HOME > Presentation > Detail
SOG-Si生成に向けたパルス変調熱プラズマによる水素ラジカルとSiHCl3との反応
(Reaction of SiHCl3 with hydrogen radical produced using pulse-modulated thermal plasma for SOG-Si production)
2010年春季 第57回 応用物理学関係連合講演会. 2010.
NIMS author(s)
Fulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)
Created at: 2019-03-04 09:36:55 +0900Updated at: 2019-03-04 09:36:55 +0900