HOME > 口頭発表 > 書誌詳細ALD法によるHigher-k絶縁膜の低温作製とCMOSへの展開(Low temperature growth of Higher-k insulator by ALD process and its application for CMOS)生田目 俊秀. 第21回シンポジウム「ALDプロセスの基礎と応用」. 2013. 招待講演NIMS著者生田目 俊秀Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻 :2017-02-14 11:10:40 +0900 更新時刻 :2024-03-05 11:44:47 +0900