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High-k/p+polySiゲートのフェルミレベルピニングの物理的起源
(Physcal meaning of the Fermi level pinning at High-k/p+poly-Si gate interafce)

白石賢二, 山田啓作, 鳥居和功, 赤坂泰志, 中島 清美, 今野充, 知京 豊裕, 北島洋, 有門径敏.
応用物理学会シリコンテクノロジー分科会研究集会. 2004.

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    作成時刻: 2017-01-08 04:37:36 +0900更新時刻: 2017-07-10 19:03:54 +0900

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