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スカベンジング効果を用いたHfO2/Si界面のSiO2の薄膜化
(SiO2 reduction at the HfO2/Si Interface by Scavenging Effect)

小橋 和義, 長田 貴弘, 池野 成裕, 小椋 厚志, 知京 豊裕.
第59回応用物理学関係連合講演会. 2012.

NIMS著者


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    作成時刻 :2017-01-08 03:52:10 +0900 更新時刻 :2017-07-10 21:20:04 +0900

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