HOME > 口頭発表 > 書誌詳細スカベンジング効果を用いたHfO2/Si界面のSiO2の薄膜化(SiO2 reduction at the HfO2/Si Interface by Scavenging Effect)小橋 和義, 長田 貴弘, 池野 成裕, 小椋 厚志, 知京 豊裕. 第59回応用物理学関係連合講演会. 2012.NIMS著者長田 貴弘知京 豊裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻 :2017-01-08 03:52:10 +0900 更新時刻 :2017-07-10 21:20:04 +0900