HOME > Presentation > DetailSi上無極性AlN成長への高N₂スパッタガス流量の効果(Effects of high N₂ sputtering gas ratio on the growth of non-polar AlN on Si)森田 雅也, 石橋 啓次, 高橋 健一郎, 上田 茂典, 知京 豊裕, 小椋 厚志, 長田 貴弘. 2021年 第82回 応用物理学会 秋季学術講演会. September 10, 2021-September 13, 2021.NIMS author(s)UEDA, ShigenoriCHIKYO, ToyohiroNAGATA, TakahiroFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2023-03-21 03:32:50 +0900Updated at: 2023-03-21 03:32:50 +0900