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デバイス動作下硬X線光電子分光法による半導体素子の界面評価
(Bias Voltage Dependent Interface Properties Obtained from Hard X-Ray Photoelectron Spectroscopy under Device Operation)

ゲートスタック研究会―材料・プロセス・評価の物理―. 2015. 招待講演

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    作成時刻 :2017-02-14 11:02:13 +0900 更新時刻 :2024-03-05 11:45:27 +0900

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