HOME > 口頭発表 > 書誌詳細アトムプローブ法によるGe/Siコアシェルナノワイヤ中の不純物分布(Characterization of dopant in Individual Si / Ge Core-Shell Nanowires Investigated by Atom Probe Tomography)Bin Han, 清水康雄, ジェバスワン ウイパコーン, 西部 康太郎, 井上耕治, 深田 直樹, 永井康介. 春季第63回応用物理学関係連合講演会. 2016.NIMS著者ジェバスワン ウイパコーン深田 直樹Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻 :2017-01-08 04:30:47 +0900 更新時刻 :2017-07-10 22:22:57 +0900