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著者名Bin Han, 清水康雄, ジェバスワン ウイパコーン, 西部 康太郎, 井上耕治, 深田 直樹, 永井康介.
タイトルアトムプローブ法によるGe/Siコアシェルナノワイヤ中の不純物分布
(Characterization of dopant in Individual Si / Ge Core-Shell Nanowires Investigated by Atom Probe Tomography)
会議名春季第63回応用物理学関係連合講演会
発表年2016
言語Japanese
外部での文献参照

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