大電流負イオン注入したシリカ中でのCu微粒子の２次元分布の生成機構
(2D distribution of Cu nanoparticles in silica glasses fabricated by high-flux negative ion implantation)
日本物理学会2000年春の分科会. 2000年03月22日-2000年03月25日.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-18 01:55:20 +0900 更新時刻: 2017-07-10 18:03:01 +0900